[文章導讀] 等離子表面處理分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。針對不同的清洗對象可選擇O2、H2和Ar等工藝氣體進行幾十秒的表面處理。

等離子表面處理分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。針對不同的清洗對象可選擇O2、H2和Ar等工藝氣體進行幾十秒的表面處理。

化學清洗是利用等離子體里的高活性自由基與材料表面的有機物等進行化學反應。采用氧氣進行清洗，使非揮發性的有機物變成易揮發的形態，產生二氧化碳、一氧化碳和水?；瘜W清洗的優點是等離子表面處理速度高、選擇性好和對清洗有機污染物比較有效，主要缺點是生成的氧化物可能在材料表面再次形成污染。在引線鍵合工藝中，氧化物是最不希望有的，這些缺點可以通過適當選擇工藝參數進行避免。

物理清洗是利用等離子表面處理里的離子做純物理的撞擊，把材料表面附著的原子打掉，也稱為濺射腐蝕。采用氬氣進行清洗，氬離子以足夠的能量轟擊器件表面，撞擊力足以去除任何污垢。聚合物中的大分子化學鍵分離成小分子而汽化，通過真空泵排出。同時經過氬等離子表面處理清洗后，能夠改變材料表面的微觀形態，使材料在分子級范圍內變得更加“粗糙”， 可大幅改善表面活性，提高表面的粘結性能。氬等離子的優點是清理材料表面不會留下任何氧化物。缺點是可能發生過量腐蝕或污染物顆粒重新積聚在其他不希望的區域，但是這些缺點可通過細調工藝參數得到控制。

物理化學反應同時存在的等離子表面處理清洗中物理反應與化學反應均起重要作用的清洗。如采用Ar和O₂的混合氣體進行在線式等離子表面處理過程時，反應速率比單獨使用Ar或O₂都要快。氬離子被加速后，產生的動能又能提高氧離子的反應能力，因此用物理化學方法可清除污染較為嚴重的材料表面。

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